高照度紫外线灯功率1KW

光刻机的品牌众多，根据采用不同技术路线的可以归纳成如下几类：**的投影式光刻机可分为步进投影和扫描投影光刻机两种，分辨率通常七纳米至几微米之间，**光刻机号称世界上**精密的仪器，世界上已有1.2亿美金一台的光刻机。极紫外光刻机堪称现代光学工业之花，其制造难度之大，全世界只有少数几家公司能够制造。国外品牌主要以荷兰ASML（镜头来自德国），日本Nikon（intel曾经购买过Nikon的半导体光刻机）和日本Canon三大品牌为主。i线步进式光刻机NSR2205i14,用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯，功率2.5KW，型号：NLi-2510AL。高照度紫外线灯功率1KW

FX-51S/61SFX-801M2003FX-53S/63S2004Yokohama Plant Yokosuka Branch (now Yokosuka Plant) is built.2005FX-71S/81S2007Tochigi Nikon Precision Co., Ltd. is established.FX-803M/903N2008Sendai Nikon Precision Corporation is established.FX-75S/85S, FPD scanner for 7th and 8th generation plate sizes2009Mito Nikon Precision Corporation is merged with Tochigi Nikon Precision Co., Ltd.Sendai Nikon Precision Corporation is merged with Miyagi Nikon Precision Co., Ltd.FX-101S, FPD scanner for 10th generation super-large plate size2010Sales of FPD lithography systems in Chinese market start.2011FX-66SFX-76S/86S2012Yokosuka Plant is completed.FX-67S, FPD scanner achieving resolution of 2 µm2013Building 530 at Yokohama Plant is closed. Construction of Building 502 is completed.Nikon Precision Singapore Pte Ltd is merged with Nikon Singapore Pte. Ltd.FX-86SH2FX-86S22016FX-68S, FPD scanner achieving resolution of 1.5 µm2018FX-103SH/103S, FPD scanner for Generation 10.5 plate size2021FX-6AS, FPD scanner achieving the highest resolution of 1.2 µm日本进口紫外线灯UNL-13501A紫外线消毒标准，超高压汞灯、金属卤素灯，工业用灯选择。

 紫外线固化杀菌 (1)杀菌原理： 通过紫外线杀菌就是通过紫外线的照射，破坏及改变微生物的 DNA(脱氧核糖核酸)结构，使细菌当即死亡或不能繁殖后代，达到杀菌的目的。紫外线杀菌的有效波长范围可分为四个不同的波段：UVA(400～315nm)、UVB(315～280nm)、UVC(280～200nm)和真空紫外线(200～100nm)，真正具有杀菌作用的是UVC紫外线，因为C波段紫外线很易被生物体的DNA吸收，尤以253.7nm左右的紫外线 。[1] uv固化原理 紫外线固化原理： 紫外线光(UV)固化是利用光引发剂(光敏剂)的感光性、在紫外线光照射下光引发形成激发生态分子，分解成自由基或是离子，使不饱和有机物进行聚合、接技、交联等化学反应达到固化的目的。 紫外灯的红外辐射的处理方法： 紫外线高压汞灯将60%的总功率转变为红外辐射，灯管表面温度可升到700-800℃。

实验室用小型UV紫外线照射设备

设备型号：QRU-2161-D

用途：光阻材料固化，粘着剂固化，封装胶固化，油墨胶固化，框胶材料固化。

照射装置构成：由灯箱和电源构成。

光源：汞灯 。

功率：300W，500W，800W.

特长：操作简单，小型化，轻量化，可手持，节能。

製品仕様：使用UV汞灯作为光源，光源主要波长为365nm，照度为30mW/cm2.

反射镜：黄金反射镜

冷却：风冷

照射面积：120×130mm

灯箱尺寸：180(W) × 250(D) × 212(H) mm

电源尺寸：300(W) × 370(D) × 395(H) mm i线步进式光刻机NSR-SF140,用于半导体器件制造。使用ORC高压汞灯，功率7.5KW，型号：NLi-7500AL2D。

ORC紫外线照度计/光量计，型号： UV-351；

①測定範囲310～385nm（峰值355nm）②光量測定ｍJ/cm2（１）測定範囲０．１～１９９９９．０ｍJ/cm2（２）表示範囲１～１９９９９ｍJ/cm2（３）光量超出１９９９９ｍJ/cm2，４個小数点和単位（ｍJ/cm2）点灭（１）測定範囲０．１～１００mW/cm2（２）照度超出１００mW/cm2，４個小数点和单位（mW/cm2）会点灭。（３）设定计时测定通过背面开关和時間設定旋钮。１）计时時間１～１０秒２）機能照度、０．１mW/cm2以上的紫外线入力，设定时间计时动作开始、显示设定时间后照度。（４）自动保存峰值測定中的最大照度値。（HOLD点滅、ＤＡＴＡ点灯）④警報（１）温度本体内部温度高于60°时、４小数点和単位（℃）点灭。精度±３℃程度（２）电池电量低下，不能使用时，ＬＯＢＡＴ表示点灯。⑤受光素子图像二极管⑥使用温度範囲０～６０℃、无结露。⑦上記温度範囲，参考敝司ＵＶ標準精度：±１．５％以内⑧往复精度上記温度範囲内±１．５％以内⑨开机时间：电源开关ＯＮ1秒⑩電源按钮型锂電池（型式Ｍｎ０２－Ｌｉ３ＶＣＲ２４５０）⑪自动关机：照度0.1mW/㎝2以下約４分后電源OFF⑫本体寸法／重量約79（W）×160（D）×12（H）／約180g i线步进式光刻机NSR-2205i12,用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯，功率2KW，型号：NLi-2011AL。Sensor紫外线灯

i线步进式光刻机NSR-2005i9用于半导体器件制造。使用ORC制作所高压汞灯，功率2KW，型号：NLi-2001AL。高照度紫外线灯功率1KW

光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。分辨率是对光刻工艺加工可以达到的纳米级细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制,所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有高压汞灯，准分子激光器等。高照度紫外线灯功率1KW